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2月5日消息:晶方科技跌5.2%,光学概念早盘报跌

2021-02-05 11:26 南方财富网

  2月5日早盘消息,截至发稿时,光学概念报跌,晶方科技(-5.244%)领跌, 隆利科技(-4.472%)、苏大维格(-3.516%)、双星新材(-2.873%)等个股纷纷跟跌。相关光学概念股有:

  晶方科技:除了引进的光学型晶圆级芯片尺寸封装技术、空腔型晶圆级芯片尺寸封装技术,公司顺应市场需求,自主独立开发了超薄晶圆级芯片尺寸封装技术、硅通孔晶圆级芯片尺寸封装技术,应用于MEMS、生物身份识别系统、发光电子器件的晶圆级芯片尺寸封装技术、扇出型封装技术、系统级封装技术及应用于汽车电子产品的封装技术等,这些技术广泛应用于影像传感芯片、环境感应芯片、医疗电子器件、微机电系统、生物身份识别芯片。

  隆利科技:产品精密组装车间方面,公司共拥有多条带CCD定位的全自动组装生产线,配备自动压胶、自动喷码设备和全自动光学检测设备,全套设备使用传送带连接作业,实现“上料-组装-压胶-喷码-检测”全流程的智能化生产。

  苏大维格:经多年发展,苏大维格成为微纳光电材料、新型显示和纳米印刷领域自主创新的典型企业,涉及微纳光学印材、纳米印刷、3D成像材料、平板显示、高端智能微纳装备的研发与产业化,在深交所A股创业板上市。

  双星新材:江苏双星彩塑新材料股份有限公司2011年6月2日深交所挂牌上市,登陆中国资本市场,是一家专业从事高分子复合材料、光学膜、节能窗膜、光电新材料、可变信息材料、新能源材料、热收缩材料、聚酯工业基材、功能性膜级聚酯切片等产品生产和销售的国家高新技术企业、中国双向拉伸薄膜产业基地、国家火炬宿迁薄膜特色产业基地、中国轻工业塑料行业十强企业,2012年“双星SHUANGXING”商标荣膺“中国驰名商标”。

  数据仅参考,不构成投资建议,据此操作,风险自担。

  

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